EVG与Toppan Photomask在纳米压印光刻技术上合作

晶圆键合和光刻设备供应商EV集团(EVG)和Toppan Photomask已达成协议，共同推广纳米压印光刻技术(NIL)，将其作为光子学行业的大批量制造(HVM)工艺。

EVG开创了NIL的先河，从20年前的一项方法研究，到在各种衬底尺寸（从2英寸化合物半导体晶圆到300毫米晶圆，甚至大面积面板）上实现批量生产。传统光刻技术在解决需要创建小而任意形状的图案（例如超透镜（metalenses））的应用方面已达到极限。

NIL是一种经过验证的、具有成本效益的工艺，可在复杂结构上生成纳米级分辨率图案，因此是这些应用的可行替代方案。

该合作旨在将NIL建立为光子制造的工业标准生产工艺，并加速其在HVM中的实施，以支持各种应用。这些应用包括增强/混合/虚拟现实头盔、智能手机和汽车传感器，以及医学成像系统。

作为这种非独家合作的一部分，EVG和Toppan Photomask将汇集他们的知识、专长和服务，利用来自Toppan Photomask的主模板和EVG提供的设备和工艺开发服务来提供NIL开发工具包。

此外，EVG将在其位于奥地利总部的EVG NILPhotonics®能力中心向感兴趣的公司提供NIL技术和产品演示。此外，两家公司都将指定对方作为推荐的供应链合作伙伴，供有兴趣利用NIL支持其生产需求的公司使用。

“Toppan Photomask很高兴与EVG达成合作，”Toppan Photomask首席技术官Chan-Uk Jeon说，“EVG的NIL工具和加工能力是世界一流的，将使光子学和其他新技术的成本效益得到增长，这些技术目前正在适应NIL技术。Toppan Photomask认为，随着NIL成长为另一种成功的光刻解决方案，在两家公司的既定优势下，前景光明。”

EVG企业技术开发和知识产权总监Markus Wimplinger表示：“我们很高兴与Toppan Photomask合作，将纳米压印光刻技术带入主流制造应用。作为以最高质量标准着称的半导体光掩模的领先供应商，Toppan Photomask在涉及世界上最严格的制造要求的标准化生产方法方面拥有丰富的经验。纳米压印工艺设备和服务提供商与纳米压印母版制造商之间的首次合作是该行业的一个巨大胜利，并将帮助我们的客户迅速扩大NIL的规模，使之作为先进光学器件和元件的大规模生产技术——帮助他们将新的‘虚拟’想法变为现实。”

两家公司的专家在9月19日至23日在比利时鲁汶的Gasthuisberg学术园区举行的2022年欧洲传感器微纳工程(MNE)会议上讨论这一合作。

此外，EVG的christine Thanner将于10月5日在日本富山举行的纳米压印和纳米打印技术(NNT)会议上发表题为“纳米压印——从小众制造到大批量制造”的全会特邀演讲，她将在会上阐述拥有匹配的NIL成熟技术、复制设备和工艺的重要性。

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