据媒体报道,日本国立产业技术综合研究所(AIST)将与英特尔合作,且投资约1000亿日元(约合7亿美元),在日本兴建最先进的半导体研发中心,预计于2027年开始营运。
此前就有消息传出,称英特尔将与日AIST在日本建立芯片研发基地,新设施将在三到五年内建成,并配备极紫外线光刻(EUV)设备。设备制造商和材料公司将付费使用该设施进行原型设计和测试。据介绍,这将是日本第一个行业成员能够共同使用极紫外光刻设备的中心。
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