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II-VI为何能依靠通用电气的知识产权征服碳化硅功率市场?

2021/3/15 13:29:05      材料来源:compoundsemiconductor

 

正如前期宣布的那样,光学元件和材料制造商II-VI已从通用电气公司(General Electric)获得碳化硅(SiC)技术许可,进军功率器件和模块领域。就像II-VI在碳化硅晶圆市场的主要竞争对手Cree/Wolfspeed和罗姆集团公司(包括SiCrystal)那样,新的技术许可旨在利用碳化硅基电子器件日益增长的市场需求,这种需求由快速发展的EV/HEV应用所驱动。

 

Knowmade在《2019年碳化硅功率专利格局(MOSFETs -SBDs - Modules)》报告中回顾了通用电气的碳化硅功率器件技术。“通用电气的专利行动始于2000年代末,专注于碳化硅 MOSFET的平面型器件架构。”Knowmade化合物半导体和电子的技术专利分析师RémiComyn肯定地说。事实上,截止到2020年,通用电气的专利组合包括30多个与碳化硅 MOSFET相关的专利族(即单个发明在多个国家/地区获得专利),集中了30多项已授权的专利和40多项正在申请的专利,反映了通用电气的全球知识产权战略遍及美国,中国,日本和欧洲。 

 

根据Knowmade的分析,通用电气是平面型碳化硅 MOSFET技术领域里最活跃的知识产权玩家,但仍然是Cree/Wolfspeed和三菱电机的挑战者,如图1所示。Cree从上世纪90年代开始进行专利行动,在平面型碳化硅 MOSFET领域占据领先地位,目前在全球拥有超过90项已获授权的专利,包括多项关键专利。而截至2018年,通用电气的专利组合主要由待批专利申请组成。在过去的几年中,通用电气设法将有前景的知识产权转化为更多可执行的专利组合(图1)。

 

图1:在平面型碳化硅 MOSFET专利领域中,通用电气知识产权的领导地位的演变

 

此外,通用电气在碳化硅 MOSFET技术相关的专利活动目前已转向基于该技术的功率转换器。RémiComyn表示:“我们观察到通用电气在碳化硅 MOSFET领域的专利活动有所放缓,自2018年以来仅有几项新发明,这表明通用电气的碳化硅 MOSFET技术已经高度成熟。”“目前,通用电气的专利活动集中在美国专利优先权在全球范围内的扩展”。除了碳化硅 MOSFET和碳化硅基转换器,通用电气还公布了几项与低电感碳化硅功率模块相关的新发明,如专利US 10,021,802(2018)和专利US 9,893,646(2017)。

 

有趣的是,通用电气申请的众多专利都集中在与平面型碳化硅 MOSFET的栅极结构有关的问题上,例如减轻碳化硅 MOSFET器件阈值电压中的负偏压温度不稳定性。在专利US 10,367,089中,发明人在栅极电极上插入一个介电层,在介电层内部或下方插入补救层,将阈值电压的变化限制在1伏以下。(图2)。

 

 

图2 :(专利US 10,367,089)补救层123位于介电层120上,缓解负偏压温度不稳定的情况。

 

此外,通用电气的专利组合解决了平面型碳化硅技术的不同构件,例如:

 

•碳化硅器件中欧姆接触的系统和方法(基于退火的硅化镍层)(专利US 9,230,807)

 

•具有优化层的碳化硅 MOSFET器件中的电场屏蔽(专利US 10,096,681)

 

•一种在栅极电极尖角处降低电场的平面型碳化硅 MOSFET器件(图3),可提高器件的可靠性(专利申请EP 3,108,507)

 

•一种增加了沟道外围的非平面型碳化硅n沟道DMOSFET器件(专利号US 9,024,328)

 

图3 :(专利申请EP 3,108,507)栅极绝缘层(202),例如SiO2在层角处的厚度大于中心处。栅极电极(204)包括多晶硅层。

 

最近,通用电气公开了一项关于碳化硅功率器件具有正温度系数(PTC)栅极网络的发明(2019)。以及一项关于碳化硅器件在终端区域具有改善电场抑制的发明(2020)。

 

2013年,通用电气在汽车行业的技术进行了认证(AEC-Q101,200°C)。2016年底,除去在其现有的4英寸试点碳化硅晶圆厂(位于美国Niskayuna的通用电气全球研究中心)进行小批量生产外,还在纽约电力电子制造联盟(NY-PEMC)工厂(美国Albany市纽约理工学院150毫米碳化硅晶圆厂)进行碳化硅功率器件的大批量生产。2017年,在NY-PEMC的框架下,通用电气与Danfoss建立制造合作关系,在美国纽约州的Utica生产碳化硅功率模块。有趣的是,Danfoss是2019年功率碳化硅专利格局中的新成员,在2018年提交了4项待审申请,涉及碳化硅功率器件的高功率转换效率和高功率密度模块的优化。

 

II-VI与通用电气之间的专利协议将进一步推动平面型碳化硅MOSFET技术在系统电气化方面的应用,例如工业基础设施,大型数据中心和汽车(EV / HEV)。“虽然大多数以汽车为重点的专利申请人,例如Toyota Motor和罗姆似乎都将重点放在汽车应用的沟槽式碳化硅 MOSFET技术上,但我们也观察到涉及平面型碳化硅 MOSFET供应商(例如Cree / Wolfspeed)合作开发基于碳化硅的汽车应用”,RémiComyn说道。举例来说,2019年11月,Cree / Wolfspeed与领先的汽车供应商ZF建立了战略合作伙伴关系,以增强碳化硅逆变器的电动动力系统。

 

 

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